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테크업팩토리
반도체 제조장비 내부 오염 입자 줄이는 '내플라즈마성 소재' 국산화
재료연,'내플라즈마성 세라믹 나노복합체 신조성 및 공정 기술' 국내 최초 개발 한국재료연구원(이하 재료연) 엔지니어링세라믹연구실 마호진, 박영조 박사 연구팀이 반도체 제조 장비 내부 오염 입자를 줄이는 '내플라즈마성 세라믹 나노복합체 신조성 및 공정' 기술을 개발, 반도체의 정밀 부품 제조사 맥테크에 기술이전 했다고 22일 밝혔다. 일반적인 반도체 공정은 플라즈마를 이용한 식각 공정으로 이뤄진다. 이 과정에서 실리콘 웨이퍼와 장비의 내부 부품까지 플라즈마에 노출돼 오염 입자를 생성하는데 이는 칩 불량 발생의 원인이 된다. 또 장...